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  • ZEUS日本進口NCC顆粒/灰塵高精度目視清潔檢查燈

    日本進口NCC顆粒/灰塵高精度目視清潔檢查燈 ZEUS 缺陷的原因可以很容易地看到并消除。 “ZEUS”是工作場所的清潔檢查燈,旨在實現 0% 的缺陷率。

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    2025-05-07

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  • AW-1000日本katsura全視場波前像差測量裝置全自動

    日本katsura全視場波前像差測量裝置全自動 AW-1000 這是一種可以全自動測量鏡頭光軸上和離軸波前像差的設備。

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  • MS-2000日本katsura自準直儀角度高精度測量裝置

    日本katsura自準直儀角度高精度測量裝置 MS-2000 該設備非常適合評估和檢查智能手機和其他設備中安裝的具有傳感器移位圖像穩定功能的相機模塊執行器。 通過使用特殊的專用目標,可以高精度地同時測量目標物體的六項:傾斜(θX,θY)、位移(Z)、位置(X,Y)和旋轉(θ)。

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  • AFM-30nisshooptical狹縫圖像觀察深度高度測量機

    nisshooptical狹縫圖像觀察深度高度測量機 AFM-30 這是一種新型深度和高度測量裝置,結合了使用光切割的狹縫圖像觀察和使用聚光圖像的AF(自動對焦)跟蹤。 連續跟蹤自動對焦驅動可實現快速、易于使用的測量,并具有高重復性。 由于該方法在觀察狹縫圖像投影的臺階形狀的同時進行測量,因此可以實時識別測量屏幕上的高度,從而輕松確定需要測量的區域。

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  • AFM-30nisshooptical鹵素光源目視檢查測量儀日本

    nisshooptical鹵素光源目視檢查測量儀日本 AFM-30 這是一種新型深度和高度測量裝置,結合了使用光切割的狹縫圖像觀察和使用聚光圖像的AF(自動對焦)跟蹤。 連續跟蹤自動對焦驅動可實現快速、易于使用的測量,并具有高重復性。 由于該方法在觀察狹縫圖像投影的臺階形狀的同時進行測量,因此可以實時識別測量屏幕上的高度,從而輕松確定需要測量的區域。

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  • AFM-30日本nisshooptical半導體激光器測量裝置

    日本nisshooptical半導體激光器測量裝置 AFM-30 這是一種新型深度和高度測量裝置,結合了使用光切割的狹縫圖像觀察和使用聚光圖像的AF(自動對焦)跟蹤。 連續跟蹤自動對焦驅動可實現快速、易于使用的測量,并具有高重復性。 由于該方法在觀察狹縫圖像投影的臺階形狀的同時進行測量,因此可以實時識別測量屏幕上的高度,從而輕松確定需要測量的區域。

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  • AFM-30日商精光nisshooptical光學系統測量深高度

    日商精光nisshooptical光學系統測量深高度 AFM-30 這是一種新型深度和高度測量裝置,結合了使用光切割的狹縫圖像觀察和使用聚光圖像的AF(自動對焦)跟蹤。 連續跟蹤自動對焦驅動可實現快速、易于使用的測量,并具有高重復性。 由于該方法在觀察狹縫圖像投影的臺階形狀的同時進行測量,因此可以實時識別測量屏幕上的高度,從而輕松確定需要測量的區域。

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  • HZ-7000系列日本meidensha電化學測量裝置帶液晶監視器

    日本meidensha電化學測量裝置帶液晶監視器 HZ-7000系列 HZ-7000 配置了液晶監視器, 是具備存儲功能的小型, 高性能恒電位 / 恒電流測試儀。 以循環伏安法為中心, 可進行各種電化學測量。

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    2025-05-07

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