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產(chǎn)品展示/ Product display

您的位置：首頁  /  產(chǎn)品展示  /  外觀分析設(shè)備  /  試驗(yàn)機(jī)  /  A-52-STD2-U日本yamamoto硅晶圓電鍍試驗(yàn)用雙面水槽

日本yamamoto硅晶圓電鍍試驗(yàn)用雙面水槽

日本yamamoto硅晶圓電鍍試驗(yàn)用雙面水槽
2～8英寸（50–200 mm）晶圓的雙面同時電鍍
專為TSV（硅通孔）、TSG（玻璃通孔）、RDL重布線、凸塊（Bumping）等半導(dǎo)體*封裝工藝設(shè)計(jì)
單臺槳式攪拌裝置即可同時攪拌晶圓兩面，保證鍍層均勻性

  • 產(chǎn)品型號：A-52-STD2-U
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時間：2025-11-19
  • 訪  問  量：107
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詳細(xì)介紹

日本yamamoto硅晶圓電鍍試驗(yàn)用雙面水槽
日本yamamoto硅晶圓電鍍試驗(yàn)用雙面水槽

  • 2～8英寸（50–200 mm）晶圓的雙面同時電鍍
  • 專為TSV（硅通孔）、TSG（玻璃通孔）、RDL重布線、凸塊（Bumping）等半導(dǎo)體*封裝工藝設(shè)計(jì)
  • 單臺槳式攪拌裝置即可同時攪拌晶圓兩面，保證鍍層均勻性


晶圓用電鍍裝置, 水槽

硅晶圓用水槽（雙面電鍍用）

日本yamamoto硅晶圓電鍍試驗(yàn)用雙面水槽

2～8英寸硅晶圓用雙面電鍍槽。電極兩側(cè)為雙面溢流結(jié)構(gòu)。
特別說明，也可更改為3面或4面溢出。

  • 2～8英寸（50–200 mm）晶圓的雙面同時電鍍
  • 專為TSV（硅通孔）、TSG（玻璃通孔）、RDL重布線、凸塊（Bumping）等半導(dǎo)體*封裝工藝設(shè)計(jì)
  • 單臺槳式攪拌裝置即可同時攪拌晶圓兩面，保證鍍層均勻性
  • 2～8英寸（50–200 mm）晶圓的雙面同時電鍍
  • 專為TSV（硅通孔）、TSG（玻璃通孔）、RDL重布線、凸塊（Bumping）等半導(dǎo)體*封裝工藝設(shè)計(jì)
  • 單臺槳式攪拌裝置即可同時攪拌晶圓兩面，保證鍍層均勻性
  • 2～8英寸（50–200 mm）晶圓的雙面同時電鍍
  • 專為TSV（硅通孔）、TSG（玻璃通孔）、RDL重布線、凸塊（Bumping）等半導(dǎo)體*封裝工藝設(shè)計(jì)
  • 單臺槳式攪拌裝置即可同時攪拌晶圓兩面，保證鍍層均勻性


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