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日本k-matsumi半導體DMA納米粒子測量裝置

日本k-matsumi半導體DMA納米粒子測量裝置
氣溶膠先經中和器帶已知電荷分布 → 進入同軸圓柱形 DMA → 僅特定電遷移直徑粒子通過狹縫。
濃度計數
出 DMA 的 mono-mobile 粒子由 CNC(或 CPC)計數 → 掃描電壓即可獲得 10 – 1000 nm 范圍內的 粒徑分布(dN/dlogDp)。
結果輸出
自動生成 個數濃度、表面積、體積、質量分布 及 平均粒徑、眾數、幾

  • 產品型號:DMA-20
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2025-12-29
  • 訪  問  量:101
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詳細介紹

日本k-matsumi半導體DMA納米粒子測量裝置
日本k-matsumi半導體DMA納米粒子測量裝置

測量原理

  1. 電遷移分類
    氣溶膠先經中和器帶已知電荷分布 → 進入同軸圓柱形 DMA → 僅特定電遷移直徑粒子通過狹縫。
  2. 濃度計數
    出 DMA 的 mono-mobile 粒子由 CNC(或 CPC)計數 → 掃描電壓即可獲得 10 – 1000 nm 范圍內的 粒徑分布(dN/dlogDp)
  3. 結果輸出
    自動生成 個數濃度、表面積、體積、質量分布平均粒徑、眾數、幾何標準偏差

3. 關鍵規格

項目規格
粒徑范圍10 nm – 1000 nm(單級 DMA)
分辨率64 – 256 通道 / 十倍程可選
濃度上限10? 粒子/cm3(與稀釋器聯用可擴至 10?)
采樣流量0.3 – 2 L/min 自動恒流
電壓掃描10 – 10 000 V,線性或對數掃描 ≤ 60 s
重現性計數濃度 ±5 %,粒徑 ±2 %
數據接口USB-C + 模擬 0 – 10 V 輸出;附日文/英文軟件

4. 系統構成

  • 中和器:Kr-85 或 X-ray 型(低維護)
  • DMA 主機:不銹鋼電極,可拆式狹縫,便于清洗
  • CNC/CPC:內置光學計數器,可擴展 2.5 nm 下限
  • 稀釋器(可選):旋轉盤式,稀釋比 1:10 – 1:1000
  • 軟件:Windows 11 對應,一鍵生成 CSV、ASCII、BMP 報告

5. 典型應用

領域測量對象
半導體CMP 研磨液、晶圓清洗液中的納米顆粒;潔凈室氣溶膠監控
汽車/電池發動機排氣、EV 電池干法電極粉塵
醫藥/化妝品噴霧劑、吸入粉體、脂質體粒徑
環境大氣納米顆粒、煙道 PM1.0、超細顆粒物源解析
功能材料金屬納米膠體、量子點、陶瓷漿料

6. 特色與優勢

  • 狹縫可拆:30 s 完成維護,避免交叉污染
  • 低死體積:響應時間 < 3 s,適合在線快速切換
  • 寬濃度兼容:自帶雙稀釋器自動切換,無需手動稀釋


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