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日本mikasa半導體薄膜制造小型旋轉涂布機

日本mikasa半導體薄膜制造小型旋轉涂布機
MS-B100 以小巧桌面體積、寬速域高精度旋轉和可編程多段工藝，成為實驗室制備均勻納米-微米級薄膜的常用入門級機型。

  • 產品型號：MS-B100
  • 廠商性質：經銷商
  • 更新時間：2026-01-05
  • 訪  問  量：64
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日本mikasa半導體薄膜制造小型旋轉涂布機

日本mikasa半導體薄膜制造小型旋轉涂布機

日本 Mikasa MS-B100 是一款專為實驗室設計的臺式旋轉涂布機（Spin Coater），主要用于半導體、光學、MEMS、材料研究等領域的光刻膠、聚合物、溶膠-凝膠等薄膜制備。核心信息如下：
  1. 基板能力
    • 4 英寸晶圓或 75 mm × 75 mm 方片
    • 旋轉腔體內徑 φ220 mm
  2. 旋轉性能
    • 轉速 20–8 000 rpm（部分資料寫 50–7 500 rpm，以 20–8 000 rpm 的新版規格為準）
    • 設定/顯示精度 ±1 rpm（帶載時仍保持）
    • 可任意設定“達到目標轉速的加速時間"與“保持時間"，用于精確控制膜厚
  3. 電機與控制
    • 無刷 AC 伺服電機——低發熱、無粉塵，適合潔凈間
    • 100 段 × 10 組程序，可編多步速率和時間曲線，實現自動重復實驗
  4. 真空吸附
    • 數字式真空計標準配置，吸附壓力 -0.08 ~ -0.1 MPa
    • 帶真空聯鎖保護：真空不足或蓋子未閉合時禁止旋轉
  5. 機身規格
    • 外形 259 mm × 246 mm × 330 mm，重量約 10 kg
    • 電源 AC 100–240 V，50/60 Hz，5 A
    • 透明亞克力蓋子（可選）方便觀察，可防止溶劑揮發外溢

MS-B100 以小巧桌面體積、寬速域高精度旋轉和可編程多段工藝，成為實驗室制備均勻納米-微米級薄膜的常用入門級機型。

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