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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • MSP-40T日本shinkuu實驗室多金屬全自動濺射鍍膜儀

    日本shinkuu實驗室多金屬全自動濺射鍍膜儀 裝置概述 類型:多功能簡易操作型磁控濺射裝置,適用于多種金屬的薄膜制備。 特點: 小型桌面型設(shè)計,占用空間小。 低電壓涂層,樣品采用浮動式設(shè)計,可減少樣品損傷。 配備觸摸屏操作面板,支持配方功能,可實現(xiàn)全自動濺射成膜。

    更新時間

    2025-10-22

    廠商性質(zhì)

    經(jīng)銷商

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    168

  • MSP-1S日本shinkuu貴金屬薄膜鍍膜研究磁控濺射儀

    日本shinkuu貴金屬薄膜鍍膜研究磁控濺射儀 專為掃描電子顯微鏡(SEM)觀察用貴金屬薄膜涂層設(shè)計,用于防止SEM樣品的充電效應(yīng),提高二次電子的產(chǎn)生效率。 低電壓放電:采用磁控靶電極進行低電壓放電,結(jié)合浮動式樣品臺,減少電子束對樣品的損傷。 操作簡便:只需按下按鈕即可自動進行涂層處理,操作簡單,任何人都可以輕松操作。

    更新時間

    2025-10-22

    廠商性質(zhì)

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    137

  • MSP-mini日本shinkuu小型光學(xué)薄膜涂層納米級涂布機

    日本shinkuu小型光學(xué)薄膜涂層納米級涂布機 只需按下按鈕即可自動進行涂層處理,無需復(fù)雜操作,適合實驗室和研發(fā)用途。 成本效益高:采用小型靶材(直徑32毫米),降低了運行成本。標準配置的金靶材和可選的銀靶材均具有較高的性價比。 小型化設(shè)計:裝置體積小巧,便于放置和使用,適合空間有限的實驗室環(huán)境。

    更新時間

    2025-10-22

    廠商性質(zhì)

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    148

  • MSP-mini日本shinkuu實驗室自動涂布機磁控濺射裝置

    日本shinkuu實驗室自動涂布機磁控濺射裝置 只需按下按鈕即可自動進行涂層處理,無需復(fù)雜操作,適合實驗室和研發(fā)用途。 成本效益高:采用小型靶材(直徑32毫米),降低了運行成本。標準配置的金靶材和可選的銀靶材均具有較高的性價比。

    更新時間

    2025-10-22

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  • mini-BSⅠG日陶科學(xué)實驗室加熱燒結(jié)氣體置換型小型電爐

    日陶科學(xué)實驗室加熱燒結(jié)氣體置換型小型電爐 這款小型電爐適用于需要精確溫度控制的實驗室環(huán)境,具有定時器設(shè)定功能,操作簡便,適合進行各種材料的加熱和燒結(jié)等實驗。其氣體置換型設(shè)計有助于在高溫下進行實驗時保持爐內(nèi)氣氛的穩(wěn)定。

    更新時間

    2025-10-20

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  • NHK-170AF日陶科學(xué)工業(yè)材料加熱和燒結(jié)實驗用小型電爐

    日陶科學(xué)工業(yè)材料加熱和燒結(jié)實驗用小型電爐 小型電爐適用于需要精確溫度控制的實驗室環(huán)境,全自動程序控制功能使其操作簡便,適合進行各種材料的加熱和燒結(jié)等實驗。其氧化鋁纖維爐膛提供了優(yōu)異的保溫性能和耐高溫特性,使得這款電爐在高溫應(yīng)用中表現(xiàn)出色。

    更新時間

    2025-10-20

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  • NHK-210-BSⅡ日陶科學(xué)實驗室精確溫度控制小型電爐

    日陶科學(xué)實驗室精確溫度控制小型電爐 這款小型電爐適用于需要精確溫度控制的實驗室環(huán)境,全自動程序控制功能使其操作簡便,適合進行各種材料的加熱和燒結(jié)等實驗。

    更新時間

    2025-10-20

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  • B-106日陶科學(xué)高溫?zé)Y(jié)致密結(jié)構(gòu)氧化鋁球磨罐

    日陶科學(xué)高溫?zé)Y(jié)致密結(jié)構(gòu)氧化鋁球磨罐 アルミナ (Al?O?) 93%:氧化鋁含量93% 主原料使用高純度氧化鋁,通過高溫?zé)Y(jié)微晶體集合體,具有高硬度和高耐沖擊強度,耐磨性好的產(chǎn)品。 由于材料致密且比重較大,粉碎效率提高,縮短了粉碎時間。 適用于各種粉碎機。由于硬度、機械強度高、比重較大,磨損性小,鐵分等不純物少,因此具有優(yōu)勢。

    更新時間

    2025-10-20

    廠商性質(zhì)

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