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晶圓納米級金屬污染物半自動微量回收裝置

晶圓納米級金屬污染物半自動微量回收裝置
用于 硅片及化合物半導體晶圓 表面/側面 納米級金屬污染物 的 半自動微量回收

  • 產品型號:SC-9200
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2025-12-31
  • 訪  問  量:52
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詳細介紹

晶圓納米級金屬污染物半自動微量回收裝置

晶圓納米級金屬污染物半自動微量回收裝置

  • 用于 硅片及化合物半導體晶圓 表面/側面 納米級金屬污染物半自動微量回收
  • 也可擴展至 GaAs、SiC、GaN 等化合物襯底

二、核心功能

功能說明
自動保持具清洗回收液槽與吸頭每次循環自動沖洗,消除交叉污染
上吸式液回收通過負壓將取樣液 精確吸回,殘留量 < 1 µL
多種取樣圖形標配:環狀、扇形、固定半徑、弧段;可選:側面(倒角)、矩形、弓形
全自動流程①裝夾 → ②供液 → ③取樣 → ④回收 → ⑤清洗,一鍵完成
高潔凈設計整機可置于 潔凈臺(Clean Draft) 內使用;與晶圓接觸部分 PFA/PTFE 材質

三、技術參數

項目規格
適用晶圓2–8 inch(可兼容缺口/平邊)
取樣面積最小 Φ 1 mm 環帶, 全表面
回收液體積50–500 µL(可調,閉環體積校準)
取樣時間典型 30 s/片(含清洗)
電源AC 100–240 V 50/60 Hz 200 W
公用介質純水(DIW)、氮氣(N?)、潔凈空氣(CDA)
外形/重量690 × 550 × 790 mm / 55 kg
控制方式外接 PC(Windows),圖形界面;可導出 CSV/Excel


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