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日本nasgiken硅片晶圓表面金屬污染回收裝置

日本nasgiken硅片晶圓表面金屬污染回收裝置
簡(jiǎn)易型用于 硅片及化合物半導(dǎo)體晶圓 表面/側(cè)面 納米級(jí)金屬污染物 的 半自動(dòng)微量回收

  • 產(chǎn)品型號(hào):SC-9200
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間:2025-12-31
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:60
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詳細(xì)介紹

日本nasgiken硅片晶圓表面金屬污染回收裝置

日本nasgiken硅片晶圓表面金屬污染回收裝置

SC-9200 簡(jiǎn)易型微量金屬污染物回收裝置

  • 用于 硅片及化合物半導(dǎo)體晶圓 表面/側(cè)面 納米級(jí)金屬污染物半自動(dòng)微量回收
  • 也可擴(kuò)展至 GaAs、SiC、GaN 等化合物襯底

二、核心功能

功能說(shuō)明
自動(dòng)保持具清洗回收液槽與吸頭每次循環(huán)自動(dòng)沖洗,消除交叉污染
上吸式液回收通過(guò)負(fù)壓將取樣液 精確吸回,殘留量 < 1 µL
多種取樣圖形標(biāo)配:環(huán)狀、扇形、固定半徑、弧段;可選:側(cè)面(倒角)、矩形、弓形
全自動(dòng)流程①裝夾 → ②供液 → ③取樣 → ④回收 → ⑤清洗,一鍵完成
高潔凈設(shè)計(jì)整機(jī)可置于 潔凈臺(tái)(Clean Draft) 內(nèi)使用;與晶圓接觸部分 PFA/PTFE 材質(zhì)

三、技術(shù)參數(shù)

項(xiàng)目規(guī)格
適用晶圓2–8 inch(可兼容缺口/平邊)
取樣面積最小 Φ 1 mm 環(huán)帶, 全表面
回收液體積50–500 µL(可調(diào),閉環(huán)體積校準(zhǔn))
取樣時(shí)間典型 30 s/片(含清洗)
電源AC 100–240 V 50/60 Hz 200 W
公用介質(zhì)純水(DIW)、氮?dú)猓∟?)、潔凈空氣(CDA)
外形/重量690 × 550 × 790 mm / 55 kg
控制方式外接 PC(Windows),圖形界面;可導(dǎo)出 CSV/Excel


SC-3100通過(guò)連接 PC 創(chuàng)建多種取樣模式,可從硅片表面及側(cè)面(倒角部)回收微量金屬污染。幾乎不需要外部資源,也不占空間,設(shè)備導(dǎo)入門(mén)檻低。機(jī)械作業(yè),無(wú)需操作者熟練,任何人都能輕松采樣。采樣藥液供給與保持具移動(dòng)由裝置自動(dòng)完成,與 SC-2000 相比,可進(jìn)一步減少人員污染。SC-8150具備從親水狀態(tài)晶圓回收污染的功能,除硅片外,也可對(duì)表面粗糙的體蝕刻晶圓等材質(zhì)進(jìn)行采樣。對(duì)晶圓狀態(tài)和藥液種類(lèi)的限制放寬,除重金屬外,還可回收其他離子。當(dāng)然,傳統(tǒng)的疏水采樣同樣支持。SC-9100具備從親水狀態(tài)晶圓回收污染的功能,除硅片外,也可對(duì)表面粗糙的體蝕刻晶圓等材質(zhì)進(jìn)行采樣。對(duì)晶圓狀態(tài)和藥液種類(lèi)的限制放寬,除重金屬外,還可回收其他離子。當(dāng)然,傳統(tǒng)的疏水采樣同樣支持。采樣藥液供給與保持具移動(dòng)由裝置自動(dòng)完成,與 SC-8150 相比,可進(jìn)一步減少人員污染。

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