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日本kashiyama半導體刻蝕高耐蝕干式真空泵

日本kashiyama半導體刻蝕高耐蝕干式真空泵
轉子相互無接觸,零摩擦、低粉塵,MTBF 大幅延長
新型分區加熱系統:保持泵腔溫度梯度,減少副產物沉積,提高工藝耐受性

  • 產品型號:SDX600/SDT600
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2026-01-07
  • 訪  問  量:53
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詳細介紹

日本kashiyama半導體刻蝕高耐蝕干式真空泵

日本kashiyama半導體刻蝕高耐蝕干式真空泵

產品定位

  • SDX:節能?對應苛刻工藝機型
  • SDT / SDH:高工藝耐受性?超級苛刻工藝對應機型(SDH為更高耐工藝系列)

關鍵規格一覽

機型抽速*極限壓力N?流量冷卻水功耗外形尺寸(mm)
SDX60010,000 L/min0.5 Pa0–80 SLM3 L/min1.5 kW695×285×850
SDT60018,000 L/min0.3 Pa0–120 SLM4 L/min3.0 kW695×285×850
SDX120019,000 L/min0.5 Pa0–80 SLM3 L/min1.65 kW850×380×950
SDT120030,000 L/min0.3 Pa0–120 SLM4 L/min3.15 kW910×420×900
SDX180050,000 L/min0.5 Pa0–80 SLM3 L/min2.1 kW1050×515×950
SDT1800100,000 L/min0.3 Pa0–120 SLM4 L/min3.3 kW1050×515×950
SDH3000*※咨詢※咨詢4 L/min3.3 kW1050×515×950
SDH6000*※咨詢※咨詢4 L/min3.7 kW1050×515×950
*注:SDH系列為更高工藝耐受版本,詳細性能需聯系營業擔當。

通用參數

  • 電源:3相 AC200–220 V(50/60 Hz)
  • 極限壓力:無加熱、無N?吹掃條件下測得
  • 抽速:為參考值
  • 冷卻水:工業用水,流量見上表

共同技術特點

  • 垂直螺桿轉子:轉子相互無接觸,零摩擦、低粉塵,MTBF 大幅延長
  • 新型分區加熱系統:保持泵腔溫度梯度,減少副產物沉積,提高工藝耐受性
  • 空冷 + 氣鎮(Gas-Ballast):無需冷卻水配管即可排蒸氣流,節省潔凈區空間
  • 集中監控(CMS)接口:可遠程讀取溫度、電流、壓力,與主機臺聯動

典型應用

  • 硅/碳化硅晶圓刻蝕、CVD、ALD、離子注入
  • LED 藍寶石襯底與 GaN 外延層工藝
  • 功率器件、射頻器件的金屬濺射與氧化物成膜
  • 大面積 FPD(TFT-LCD、OLED)干刻與 PECVD 制程


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